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真空鍍膜系統(tǒng)價格高性價比的選擇,北京艾明坷
2021-06-18






油擴散泵在真空鍍膜機中的作用


油擴散泵:機械泵的極限真空只有10-2帕,當達到10-1帕的時候,實際抽速只有理論的1/10,如果要獲得高真空的話,必須采用油擴散泵。

油擴散泵的應用壓強范圍是10-1帕-10-7帕,它是利用氣體的擴散現(xiàn)象來排氣的,它具有結構簡單,操作方便,抽速大等特點。說到這里,很多人都遇到過真空方面的漏氣問題,真空部分出現(xiàn)了問題很麻煩,再加上我們公司沒有檢漏儀,這就要分階段來找。油擴散泵主要由泵殼、噴嘴、導流管和加熱器組成,里面主要添加擴散泵油(日本的型號是D-704#),根據(jù)噴嘴的多少可以分為單級泵和多級泵。

擴散泵底部內儲存有擴散泵油,上部為進氣口,右側旁下部為出氣口,在工作時出氣口由機械泵提供前置壓強,機械泵充當前置泵。

當擴散泵的油被電爐加熱時,產生的油蒸汽提供前置壓強,機械泵充當前置泵。當擴散泵油被電爐加熱時,產生的油蒸汽沿著導流管經(jīng)傘形噴嘴向下噴出。每種泵都有一定的工作壓強范圍,如:2BV系列水環(huán)真空泵工作壓強范圍760mmHg~25mmHg(絕壓),在這樣寬壓強范圍內,泵的抽速隨壓強而變化(詳細變化情況參照泵的性能曲線),其穩(wěn)定的工作壓強范圍為760~60mmHg。因噴嘴外面有機械泵提供的1-10-1帕的真空,故油蒸汽可噴出一段距離,構成一個向出氣口方向運動的射流。射流后碰上由冷卻水冷卻的泵壁,凝結為液體,流回蒸發(fā)器,即靠油的蒸發(fā)——噴射——凝結,重復循環(huán)來實現(xiàn)抽氣的。

由進氣口進入泵內的氣體分子,一旦落入蒸汽流中,便獲得向下運動的動量,向下飛去,由于射流具有高的流速(約200米/秒),高的蒸汽密度,且擴散泵油具有高的分子量(300-500)故能有效的帶走氣體分子,因此在射流的界面內,氣體分子不可能長期滯留,且在射流界面的兩邊,被抽氣體有很大的濃度差,正是因為這個濃度差被抽氣體能不斷的越過界面,擴散進入射流中,被帶往出口處,在出口處再由機械泵抽走。在離子鍍技術中,由于給工件施加負偏壓,可以形成“偽擴散層”、細化膜層組織,因此,可以顯著提高膜層的耐腐蝕性能。

擴散泵的油蒸汽壓是決定泵的極限真空的重要因素,因此盡量選用飽和蒸汽壓低的泵油,其化學特性要好。

由于油擴散泵是無法杜絕有返油的幾率,那么沒有辦法保證精密產品的100%純凈,特別是半導體行業(yè),所以就有“高真空冷凝泵+低真空機械泵”所組成的無油真空系統(tǒng),冷凝泵組成的排氣系統(tǒng)不僅排氣效率極高,而且有效保證真空腔的清潔,保證產品的質量(避免產品被污染、增強膜層與基板之間的附著力),但是其維護成本非常的高,造價昂貴,所以普及率沒有油擴散泵廣泛。真空鍍膜機廠家介紹在檢漏的過程中,需求注意一些問題,才能把檢漏作業(yè)做好。

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真空鍍膜機鍍制薄膜不均勻的解決方法


制的薄膜的均勻性都會受到某種因素影響。真空狀態(tài)需要抽氣系統(tǒng)來控制的,每個抽氣口都要同時開動并力度一致,這樣就可以控制好抽氣的均勻性,如果抽氣不均勻,在真空室內的壓強就不能均勻了,壓強對離子的運動是存在一定的影響的。另外抽氣的時間也要控制,太短會造成真空度不夠,但太長又浪費資源,不過有真空計的存在,要控制好還是不成問題的。當然設備和設備周圍的灰塵、油污對設備的本身的影響也是相當之大的。

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真空鍍膜機原理

真空鍍膜機是目前制作真空條件應用為廣泛的真空設備,一般用真空室、真空機組、電氣控制柜三大部分組成,排氣系統(tǒng)采用“擴散泵+機械泵+羅茨泵+低溫冷阱+polycold”組成。本公司專業(yè)從事真空鍍膜設備的研發(fā)與生產擁有經(jīng)驗豐富的技術團隊及的售后服務隊伍為您解決設備在使用過程中遇到的任何問題。在長時間的加熱過程中,鍍膜機很難避免傳感器為敏感的區(qū)域,導致薄膜的重大錯誤。


常見的真空鍍膜材料


氧化物一氧化硅SiO,二氧化硅SiO2,二氧化鈦TiO2,二氧化鋯ZrO2,二氧化鉿HfO2,一氧化鈦TiO,五氧化三鈦Ti3O5,五氧化二鈮Nb2O5,五氧化二鉭Ta2O5,氧化釔Y2O3,氧化鋅ZnO等高純氧化物鍍膜材料。

其它化合物硫化鋅ZnS,硒化鋅ZnSe,氮化鈦TiN,碳化硅SiC,鈦酸鑭LaTiO3,鈦酸鋇BaTiO3,鈦酸鍶SrTiO3,鈦酸鐠PrTiO3,硫1化鎘CdS等真空鍍膜材料。

金屬鍍膜材料高純鋁Al,高純銅Cu,高純鈦Ti,高純硅Si,高純金Au,高純銀Ag,高純銦In,高純鎂Mg,高純鋅Zn,高純鉑Pt,高純鍺Ge,高純鎳Ni,高純金Au,金鍺合金AuGe,金鎳合金AuNi,鎳鉻合金NiCr,鈦鋁合金TiAl,鋅鋁合金ZnAl,鋁硅合金AlSi等金屬鍍膜材料。并且沉降在基片表面,通過成膜過程(散點-島狀結構-迷走結構-層狀生長)形成薄膜?!?



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